レジオネラ属菌を増殖させるような設備構造

『レジオネラ属菌を増殖させるような設備構造』

レジオネラ対策として設備構造を考えるときのポイント

源泉貯槽・貯湯タンク

一般貯留する源泉貯槽・貯湯タンクは源泉の温度や滞留時間によっては、レジオネラ属菌の

増殖をまねく。

◎貯湯槽の水温を６０℃以上にすること。

◎６０℃以上に設定できない場合は、元湯がレジオネラ属菌に汚染されている可能性があるので、

貯湯温度を高められる装置に取り替える。

◎加温が困難な場合は定期的な清掃の実施および塩素剤の添加。

◎貯湯タンクの底部は、上記に比べて低温になりやすい。また、汚れも堆積しやすいので

レジオネラ属菌が検出される可能性が高い。そのため貯湯槽のドレイン管から定期的に

底部の滞留水を排水すること

◎レジオネラ属菌の侵入を制御するために「貯湯槽」は外気と遮断されていること。

また、破損個所がないかのチェックをすること。

◎貯湯タンク内に原湯を滞留させないように最適な湯量で貯湯すること。

浴室（内湯・露天風呂）

　浴槽水は満杯状態に保ち、十分に循環ろ過水または原湯を供給することで、

溢水させ清浄に保つこと。

◎浴槽水における原水、原湯の注入口は浴槽水が逆流しない構造であること

◎浴槽水を循環させる構造のものにあたっては、浴槽水の停滞を防ぐため、浴槽水の

底部に近い部分で、循環浴槽水が供給されることが望ましいこと。

◎シャワー・打たせ湯などエアロゾルを発生させる設備は、連日使用型循環浴槽水を

使用しないこと。

◎気泡発生装置などの空気取り入れ口から土埃が入らないようにすること。

◎露天風呂の浴槽水が配管を通じて屋内の浴槽水に混じらないようにすること。

ヘアキャッチャー

　ヘアキャッチャーの清掃は毎日行う。ろ過装置・配管系統と同様にレジオネラ属菌の

供給源とならないようにする。規模の小さい温浴施設では、ヘアキャッチャー内に

固形の塩素剤を投入している。

消毒装置

　浴槽水の殺菌に欠かせない装置であるため、薬液タンクへの補給を怠らず、毎日、

送液ポンプが正常に作動しているか、また、注入弁のノズルが詰まったり、空気を

かんだりして送液が停止していないかの管理が必要。

　自動注入装置の管理のまずさが原因で、レジオネラ属菌が発生した例がある。

　レジオネラ属菌検査　税込5,500円